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Jornadas Técnicas de Etching en dispositivos semiconductores ISOM-UPM



Lugar:
Sala Profesores (Edificio C)
Fecha y Hora:
Fecha de Inicio: 12 noviembre 2018
Hora de Inicio: 09:00
Hora de Finalización: 13:00

Organizador:
ISOM-UPM
Descripción:

Ponentes: Dr. Javier Martínez, Dr. Manuel Abuín,

Organismo: NTC-UPV-CNM-CSIC-ISOM

Programa:

 

12 de Noviembre del 2018

o 11:00 Llegada de los participantes

o 11:30 Presentación de las Jornadas (Javier Martínez)

o 12:00 Ataques por RIE-ICP y químicos (Manuel Abuin)

o 13:00 Comida

o 15:00 Visita de los equipos de la Sala Blanca del ISOM

o 18:00 Fin de la jornada

 

13 de Noviembre del 2018

o 09:30 Técnicas de medida del etching en los dispositivos (Manuel Abuin)

o 10:15 Ataques en dispositivos de Silicio (CNM-CSIC)

o 11:00 Pausa Cafe

o 11:30 Ataques en dispositivos fotónicos (NTC-UPV)

o 12:15 Mesa Redonda: Técnicas de etching

o 13:00 Comida

o 15:00 Clausura de las Jornadas

 

 

 

 


Área de descarga


Jornadas_Tecnicas_de_Etching_en_Dispositivos_Semiconductores_v2.pdf